掩膜版一般指光掩膜基版，是制作微細(xì)光掩膜圖形的理想感光性空白板，通過(guò)光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版。復(fù)達(dá)材料檢測(cè)機(jī)構(gòu)可提供掩膜版測(cè)試服務(wù)，為CMA資質(zhì)認(rèn)證機(jī)構(gòu)，第三方材料實(shí)驗(yàn)室，可將客戶提供的樣品進(jìn)行各項(xiàng)成分分析、性能測(cè)試，接下來(lái)為您介紹掩膜版綜合性能檢測(cè)范圍及相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。

掩膜版檢測(cè)范圍

濺鍍掩模版、TFT-Array用掩模版、TFT-CF用掩模版、遮光膜光學(xué)掩模版、透明基板光學(xué)掩模版等。

掩膜版檢測(cè)項(xiàng)目

反射率檢測(cè)、光學(xué)密度檢測(cè)、直角度檢測(cè)、CD精度檢測(cè)、位置精度檢測(cè)、最小線寬檢測(cè)、外觀質(zhì)量檢測(cè)、表面平整度檢測(cè)、鉻膜厚度檢測(cè)、最小缺陷檢測(cè)等。

掩膜版檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)

1、SJ/T 11516-2015 薄膜晶體管(TFT)用掩模版規(guī)范

2、GB 50073-2001 凈化廠房設(shè)計(jì)規(guī)范

3、SJ/T 10861-1996 鉻版光密度的測(cè)試方法

4、GB/T 16880-1997 光掩模缺陷分類和尺寸定義的準(zhǔn)則

5、GB/T 2828.1 2003計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第1部分：按接收質(zhì)量限(AQL)檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃

6、SJT 10584-1994 微電子學(xué)光掩蔽技術(shù)術(shù)語(yǔ)

7、SJ/T 10857-1996鉻版及其測(cè)試方法

掩膜版檢測(cè)流程

1、溝通需求：了解待檢測(cè)項(xiàng)目，確定檢測(cè)范圍；

2、報(bào)價(jià)：根據(jù)檢測(cè)項(xiàng)目及檢測(cè)需求進(jìn)行報(bào)價(jià)；

3、簽約：簽訂合同及保密協(xié)議，開(kāi)始檢測(cè)；

4、完成檢測(cè)：檢測(cè)周期會(huì)根據(jù)樣品及其檢測(cè)項(xiàng)目/方法會(huì)有所變動(dòng)，具體可咨詢檢測(cè)顧問(wèn)；

5、出具檢測(cè)報(bào)告，進(jìn)行后期服務(wù)；

以上是有關(guān)掩膜版檢測(cè)的相關(guān)內(nèi)容介紹，復(fù)達(dá)檢測(cè)將會(huì)為您提供完備的掩膜版檢測(cè)方案，更多檢測(cè)需求可咨詢實(shí)驗(yàn)室工程師，為您一對(duì)一解答。